EBARA ESA25-D 干式真空泵，半导体排气解决方案

摘要： 半导体制造工艺中，氢气等轻质气体的高效排气直接关系到腔体洁净度与产品良率。日本荏原（EBARA）ESA25-D 干式真空泵采用三叶多级罗茨设计与无油真空腔体结构，专为氢基工艺气体排气打造，在 MO-CVD、EPI 外延及大型负载锁等场景中拥有大量安装实绩。玉崎科学仪器（深圳）有限公司作为 EBARA 荏原中国地区授权代理商，为国内客户提供原厂级技术支持与快速交付服务。

一、产品概述

ESA25-D 是荏原 ESA 系列干式真空泵中的轻质气体排气专用型号，采用水冷式多级罗茨干泵结构，真空侧无油。该型号在 MO-CVD（金属有机化学气相沉积）和 EPI（外延）等半导体核心工艺上拥有大量安装实绩，同时兼顾大型腔体的快速粗抽需求，广泛适用于半导体负载锁、LCD 溅射设备、真空干燥工艺等多种场景。

ESA 系列的产品阵容覆盖从 1,400 L/min 到 80,000 L/min 的抽气速率范围，其中 10,000 L/min 以下型号专为氢气等轻质气体排气设计，体积小巧且提供耐腐蚀材料选项，非常适合高流量轻质气体废气应用。

二、核心技术解析

三叶多级罗茨转子设计。 ESA25-D 的核心技术基于荏原成熟的罗茨泵技术，采用三叶多级罗茨泵设计，能够有效防止轻质气体（尤其是氢气）的返流。多级结构在每一级之间形成压差过渡，逐级压缩气体，使泵在保持高抽速的同时获得理想的极限真空度。

无油真空腔体。 设备真空侧无油，泵腔无润滑油，从根源上杜绝了油蒸汽返流对工艺腔体的污染，适用于半导体、制药等对洁净度要求严苛的行业。

智能转速控制。 ESA25-D 搭载智能转子转速控制功能，可根据泵的实际负荷自适应调节转速，在保证气体吞吐量的同时实现节能运行。该型号还配备了双设定点排气压力开关（可按需选配），为氢气排气提供额外的安全保障。

耐腐蚀设计。 泵腔采用耐腐蚀材料，可耐受酸性气体和有机溶剂，延长了设备在腐蚀性工艺环境中的使用寿命。

三、关键技术参数

以上数据综合自荏原原厂技术资料。值得关注的是，该泵的极限压力指标——5.3 Pa（50Hz）——在同类轻质气体排气干泵中处于水平，能够满足半导体工艺对腔体本底真空的严格要求。

四、半导体排气应用场景

MO-CVD 工艺。 金属有机化学气相沉积是 LED、功率器件等制造中的关键工序，工艺过程中大量使用氢气作为载气。ESA25-D 在该领域拥有最大的装机基数之一，其防氢气返流设计确保了工艺腔体的洁净度和薄膜沉积质量。

EPI 外延工艺。 硅外延生长同样涉及氢气环境下的高温反应，ESA25-D 的耐腐蚀泵腔设计和智能转速控制功能，使其能够稳定应对外延工艺中持续性的氢气负荷。

大型负载锁与传输腔。 在半导体晶圆传输系统中，负载锁需要快速完成腔体抽真空和充气循环。ESA25-D 兼具较高的抽速和紧凑的泵体尺寸，适合集成在空间有限的生产设备中。

LCD 溅射与真空干燥。 ESA 系列的大型型号在 LCD 溅射设备和真空干燥工艺中表现突出，ESA25-D 作为系列中的轻质气体型号，同样适用于中小型腔室的清洁真空排气需求。

五、采购与技术支持

玉崎科学仪器（深圳）有限公司是日本科学器機株式会社全资设立的中国子公司，专业从事日系科学仪器与工业设备的国内贸易及技术服务。该公司已与株式会社荏原制作所正式签署代理协议，成为 EBARA 荏原在中国地区的授权代理商，负责干式真空泵、CMP 装置、废气处理设备等产品的市场推广与销售服务。

依托深耕日系仪器多年的渠道管理经验与覆盖全国的销售服务网络，玉崎科学仪器致力于为国内半导体、平板显示、光伏、化工及科研领域客户提供更短的交期、更具竞争力的价格以及原厂级别的技术支持。

采购咨询请联系：

• 品牌代理商：玉崎科学仪器（深圳）有限公司

• 负责人：周经理

• 服务范围：EBARA 荏原全系列干式真空泵的销售、选型咨询、技术培训及售后维护

ESA25-D 干式真空泵以其成熟的罗茨泵技术、无油洁净设计和在氢基工艺中的大量实绩，为半导体制造中的轻质气体排气提供了一套经过验证的解决方案。选择合适的授权代理商，不仅关乎设备采购成本，更关系到后续的技术支持和全生命周期服务保障。