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更新时间:2026-10-14
浏览次数:202026湾区半导体产业生态博览会(湾芯展)于10月14日至16日在深圳会展中心(福田)举办。本届展会展览面积近8万平方米,参展企业达1000余家,汇聚来自22个国家和地区的半导体核心力量,覆盖晶圆制造、化合物半导体、先进封装、IC设计等重点领域。玉崎科学仪器(深圳)有限公司作为日本大冢电子(OTSUKA)在中国市场的代理商,携OPTM系列显微分光膜厚仪亮相本届展会,展位号9号馆9S10。
半导体前道制程中,晶圆表面绝缘膜、介电材料及光刻胶等薄膜的厚度控制,直接关系到器件性能与良率。随着制程节点不断微缩,薄膜厚度的微小波动对产品性能的影响愈发显著,对膜厚测量设备在微小区域内的精度与速度提出了更高要求。玉崎科学此次展出的OPTM系列显微分光膜厚仪,正是面向半导体晶圆微小区域膜厚检测需求而推出的高精度分析设备。
展会现场,OPTM系列进行了实机演示。该产品采用非接触、非破坏式测量方式,单点对焦与测量在1秒内完成,最小测量光斑约3μm,可对晶圆图案化后的微小线路区域进行膜厚分析。设备覆盖紫外至近红外波段,提供230~800nm、360~1100nm、900~1600nm三种波长规格,膜厚测量范围从1nm至92μm(视型号不同),能够满足超薄膜至较厚膜层的测量需求。OPTM系列可替代椭偏仪进行膜厚与光学常数分析,支持折射率n、消光系数k及绝对反射率的同步测量,多层膜解析能力最高可达50层。
针对半导体晶圆检测中的实际难点,OPTM系列搭载了独C家专C利的反射物镜技术,可物理去除透明基板背面的反射干扰,实现透明基板上薄膜的真实反射率与膜厚测量。对于具有光学异向性的膜层以及SiC等化合物半导体样品,同样能够不受基材光学特性影响,独立测量上方膜层厚度。在半导体应用方面,该产品可测量SiO₂绝缘膜、SiN阻断保护膜、光刻胶、介电常数材料以及碳化硅、砷化镓等化合物半导体薄膜,适配CMP、蚀刻、成膜等前道工艺环节的膜厚管理需求。
OPTM系列提供自动XY平台型、固定框架型及嵌入头型三种规格,嵌入头型可集成于客户产线系统,适用于晶圆图案化后的微小区域膜厚映射测量。除半导体领域外,该产品还广泛应用于FPD显示(LCD、TFT、OLED彩色光阻及ITO导电膜)、光学材料(滤光片、抗反射膜)以及功能薄膜(AR膜、HC膜、PET膜)等方向的膜厚与光学常数分析。
玉崎科学仪器(深圳)有限公司作为日本京都玉崎株式会社全资设立的中国子公司,专业从事光学设备、电子计测仪器、科学仪器等产品的销售与服务。公司已正式成为日本大冢电子在中国市场的代理商,全面负责大冢电子旗下光学测量系列产品在中国区域的销售、技术支持及售后服务工作,代理产品线涵盖显微分光膜厚仪(OPTM系列)、手持式膜厚仪(SM-100系列)、晶圆薄膜厚度计(SF-3系列)及高灵敏度光谱辐射计(HS-1000系列)等。公司目前已代理日本大冢电子、日陶NIKKATO、柴田科学、NFK南国工业等多个品牌,在国内建立了覆盖深圳、苏州、北京、成都等地的服务网络。
采购选择玉崎科学仪器(深圳)有限公司,品牌负责人周可。周可及其团队可为客户提供OPTM系列显微分光膜厚仪的产品选型、应用方案沟通与售后对接服务,协助客户根据基材类型、膜层结构及测量精度需求匹配对应型号。


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